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高低溫設備-10~200℃ 制冷加熱循環裝置

簡要描述:【無錫冠亞】高低溫設備-10~200℃ 制冷加熱循環裝置,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDI-375
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-17
  • 訪  問  量:802
詳情介紹
品牌冠亞制冷價格區間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合

高低溫設備-10~200℃ 制冷加熱循環裝置


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

 

高低溫設備-10~200℃ 制冷加熱循環裝置

高低溫設備-10~200℃ 制冷加熱循環裝置

   

  1. 材料性能測試

  在材料科學領域,高低溫液體循環裝置常用于模擬環境條件下的材料性能測試,通過準確控制溫度,研究人員可以更加準確地了解材料在不同溫度下的行為特性,為材料的設計、優化和應用提供科學依據。

  2. 生物醫藥研究

  高低溫液體循環裝置可用于細胞培養、藥物穩定性測試、生物樣品保存等方面。例如,在細胞培養過程中,通過準確控制培養液的溫度,可以模擬人體內的生理環境,促進細胞的正常生長和分化;在藥物穩定性測試中,則可以通過模擬不同溫度條件,評估藥物在不同環境下的保質期和藥效變化。

  3. 化學工程與合成

  在化學工程與合成領域,它可用于化學反應的溫度控制,確保反應在溫度條件下進行,提高反應效率和產率。同時,對于需要準確控制溫度梯度的復雜反應體系,高低溫液體循環裝置也能提供有效的解決方案。

  4. 物理研究與測試

  在物理研究領域,高低溫液體循環裝置常用于超導材料、量子計算、熱力學性質研究等方面。通過創造溫度條件,研究人員可以探索物質的新性質和新現象。

  高低溫液體循環裝置不僅提高了實驗數據的準確性和可靠性,為實驗室研究提供更加有力的支持。


高低溫設備-10~200℃ 制冷加熱循環裝置





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